miércoles, 27 de abril de 2016

Deposición física de vapores enfocada a la fabricación de nanoestructuras tridimensionales


El progreso alcanzado por la nanofotónica en campos emergentes como la óptica de transformación ha impulsado el desarrollo de nuevos dispositivos que faciliten mayor control y manipulación de la luz. Materiales como películas delgadas heterogéneas y multiformes así como estructuras tridimensionales (3D) son fuertes candidatos en el diseño de tales dispositivos ya que permiten manipular la luz mediante transformaciones geométricas al variar la composición, espesores, forma y estructura por donde se propagará.

Un grupo de la Universidad de Purdue, en Indianapolis, Estados Unidos, dirigido por Alexandra Boltasseva, desarrolló una técnica que utiliza la deposición física inclinada a partir de vapores (angled PVD, del inglés physical vapor deposition), la cual aprovecha la propagación en línea recta del PVD y adiciona grados de libertad para el crecimiento 3D sobre un sustrato plano. La técnica consiste en dirigir el flujo de vapores a depositar mediante una máscara tipo muro inclinada con respecto al sustrato, logrando arquitecturas nanoestructuradas como sistemas de multicapas ultrafinas con un gradiente de espesores, superficies curvadas y arreglos 3D de nanovarillas, entre otros.

Los resultados fueron publicados recientemente en MRS Communications

1 comentario:

Anónimo dijo...

Creo que es mejor usar "depósito".