La litografía por haz de electrones (EBL del inglés electron beam lithography) es una técnica de nanofabricación utilizada para producir patrones 2D de unos pocos nanómetros. Un grupo internacional de investigadores logró un avance importante al conseguir la nanofabricación 3D utilizando películas delgadas congeladas en sustitución de las tradicionales resinas empleadas en EBL para configurar las máscaras. Los investigadores utilizaron el haz de electrones de un microscopio electrónico de transmisión y de barrido (STEM) para hacer la litografía sobre los sustratos preparados a 130K. Para procesos litográficos positivos o negativos fabricaron máscaras obtenidas de películas de agua ó compuestos orgánicos congelados, respectivamente, depositadas sobre los sustratos. La línea más delgada que obtuvieron fue de 5 nm, empleando películas de octano congelado. Así se pueden lograr nanoestructuras en áreas seleccionadas de superficies no planas. Esta investigación impulsará los estudios interdisciplinarios para fotónica 3D, electrónica y nanodispositivos 3D para biología y medicina.
Este trabajo fue publicado recientemente en Science Bulletin
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